Application of Surfactant added DHF to Post Oxide CMP Cleaning Process 


Vol. 47,  No. 6, pp. 608-0, Dec.  2003
10.5012/jkcs.2003.47.6.608


PDF
  Abstract

Post-Oxide CMP(Chemical-Mechanical Polishing) 결과 실리콘 웨이퍼를 오염 시키고 있는 슬러리 입자의 세정 가능성을 조사하기 위하여DHF(Diluted HF)에 비이온성 계면 활성제인 PAAE(Polyoxyethylene Alkyl Aryl Ether), 비양성자성 용제인 DMSO(Dimethylsulfoxide) 와 초순수의 혼합물인 새로운 세정액을 제조하였다. 세정력을 평가하기 위해서 세정제 내에서 각각 다른 제타 포텐셜을 갖는 실리카(Si2), 알루미나(A23)와 PSL(polystylene latex) 입자를 실리콘 웨이퍼 표면의 산화막에 인위적으로 오염시킨 후 실험에 이용하였다. 초음파하에서 세정액의 성능 평가 결과 본 세정기술은 효과적인 입자의 세정능력과 금속이온에 대한 세정 능력을 나타내고 있음을 확인하였다. 즉 기존의 APM(N4OH, 22와 D.I.W의 혼합물)과 달리 상온에서 세정이 가능하고 세정과정이 단축 되었으며, 낮은 농도의 HF를 사용함으로써 최소의 에칭에 의하여 표면 거칠기를 감소시킬 수 있음을 보여주고 있다. 또한 주요 CMP 금속 배선 물질들에 대한 낮은 부식력으로 기존의 CMP 후 세정공정에 뿐만 아니라 차세대CMP 공정으로 각광 받고 있는 Copper CMP 에 대한 Brush 세정 공정의 보조 세정제로 본 세정제가 적용될 가능성이 있음을 확인하였다. In order to remove particles on surface of post-oxide CMP wafer, new cleaning solution was prepared by mixing with DHF (Diluted HF), nonionic surfactant PAAE (Polyoxyethylene Alkyl Aryl Ether), DMSO (Dimethylsulfoxide) and D.I.W.. Silicone wafers were intentionally contaminated by silica, alumina and PSL (polystylene latex) which had different zeta potentials in cleaning solution. This cleaning solution under megasonic irradiation could remove particles and metals simultaneously at room temperature in contrast to traditional AMP (mixture of N4OH, 22 and D.I.W) without any side effects such as increasing of microroughness, metal line corrosion and deposition of organic contaminants. This suggests that this cleaning solution would be useful future application with copper CMP in brush cleaning process as well as traditional post CMP cleaning process.

  Statistics
Cumulative Counts from November, 2022
Multiple requests among the same browser session are counted as one view. If you mouse over a chart, the values of data points will be shown.


  Cite this article

[IEEE Style]

C. Ryu and Y. Kim, "Application of Surfactant added DHF to Post Oxide CMP Cleaning Process," Journal of the Korean Chemical Society, vol. 47, no. 6, pp. 608-0, 2003. DOI: 10.5012/jkcs.2003.47.6.608.

[ACM Style]

Chung Ryu and Youhyuk Kim. 2003. Application of Surfactant added DHF to Post Oxide CMP Cleaning Process. Journal of the Korean Chemical Society, 47, 6, (2003), 608-0. DOI: 10.5012/jkcs.2003.47.6.608.

Search
(IN TITLE, AUTHOR, ABSTRACT,KEYWORDS)

Advanced Search ▼

POPULAR KEYWORDS
(TOP 10 KEYWORDS)

Recent Publications
(LAST 3 YEARS)

ISSN(Print) 1017-2548
ISSN(Online) 2234-8530